1.3.4.1 多孔硅中间层

电化学蚀刻(electrochemicaletching)是较好的制备多孔硅技术,可以形成多重布拉格反射镜(multipleBraggreflector),应用于光学谐振腔(opticalresonantcavity)。可以通过孔隙率(porosity)控制多重布拉格反射镜层的折射率,而孔隙率由电化学蚀刻的电流密 ......（本文共 2019 字 , 2 张图）     [阅读本文] >>