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异质衬底晶体硅薄膜太阳能电池需要两种不同类型的Si沉积工艺。第1种沉积制备在衬底/中间层上,得到的多晶硅薄膜晶粒尺寸在μm量级。之后的区熔再结晶ZMR工艺要求这样的Si层满足:●厚度1～5μm;●厚度均匀度为90%～95%;●很好的结 ......（本文共 1312 字 ） [阅读本文] >>
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