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多次曝光写制技术是指对光纤写制区域进行多次曝光,以实现特殊需求的光纤光栅制作。该技术一般以二次曝光为主。这种技术很适用于制作均匀及非均匀的特种光纤光栅。1)掩模板二次曝光技术该技术要点为:首先,用一不透光挡板沿 ......（本文共 480 字 ） [阅读本文] >>
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