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变迹曝光写制技术是指通过控制激光的输出功率以及曝光区域(纤芯或包层)的扫描方式,实现对写制区域折射率分布的包络改变。该技术很适用于制作诸如切趾型、Tapered型等非均匀光纤光栅,但曝光光束的输出功率及扫描速率须精确调 ......（本文共 343 字 ） [阅读本文] >>
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