基于超短脉冲激光刻蚀的双解耦MEMS陀螺仪调频技术研究

摘要： 以双解耦双质量硅微陀螺仪为主要研究对象，从微观结构入手，分析其工作原理和双解耦运动模型，并提出影响模态特征频率的因素。提出一种改变陀螺仪弹性梁结构厚度来调整其特征频率的方法，建立模型通过Comsol软件仿真陀螺仪梁厚度变化对特征频率的影响关系，并选择皮秒激光刻蚀系统刻蚀陀螺弹性梁厚度，测试其两模态特征频率。测试结果表明：对应频率变化符合理论推导和仿真趋势。