大面积氘/氚靶制备及中子产额分析

摘要： 大面积氘/氚靶是实现高产额强流中子源的关键部件，是氘、氚中子源广泛应用的前提条件。本工作采用磁控溅射镀膜与多弧离子镀结合的方式，制备以铜或钼为基底、直径大于500 mm的大面积钛膜。针对制备的钛膜，采用自研的氘/氚靶生产系统，经过除气、净化、高温吸氘/氚、尾气回收等流程，生产了氘/氚钛原子比大于1.85的氘靶、氚靶，采用Ф22 mm的小靶片，进行氘束流加速器中子产额测试，研制的... （共6页）