磁控溅射源中氩辉光放电的等离子体行为及分布特性

摘要： 通过三维粒子数值模型对现有磁控溅射源结构中氩辉光放电的等离子体行为和分布特征进行了模拟，从而得到靶材利用率和能量利用率的信息。离子轨迹、离子能量和离子入射角分布的分析结果表明，由于电势的空间分布影响，放电电压从260 V增加到340 V，使得轰击离子比例从80%降低到67%。由于离子向靶材移动和远离靶材都会得到加速，过高的放电电压不利于提高能量利用率。另一方面，提高放电电压有利... （共8页）