基于光刻胶修正技术的石英锥形侧壁刻蚀工艺研究

摘要： 基于光刻胶修正技术，采用两步刻蚀法对石英锥形侧壁的刻蚀工艺进行了研究。首先利用Ar, O₂,CF₄气体对光刻胶刻蚀，将光刻胶的垂直侧壁修改为锥形侧壁。然后以此为掩膜实现光刻胶倾斜侧壁向石英材料的转移。两步刻蚀在同一个刻蚀腔室内完成。详细研究了光刻胶修正工艺中刻蚀气体流量、刻蚀功率、温度以及刻蚀时间等工艺参数对刻蚀速率、选择比以及刻蚀形貌的影响。通过综合优化工艺制备出刻蚀面光... （共6页）