Zr、Cr掺杂对铜互连薄膜结构及性能的影响

摘要： 研究了Zr和Cr元素掺杂对Cu互连薄膜的结构及性能的影响。利用直流磁控溅射技术在SiO₂/Si衬底上沉积了Cu、Cu(Zr)、Cu(Cr)、Cu(ZrCr)4种薄膜，并在温度400～800℃下对薄膜真空退火1h。通过SEM、XRD和四探针法对不同薄膜的表面形貌、微观结构与电学性能进行测试分析。结果表明，Zr或Cr单元素掺杂均能在一定程度上提高Cu互连薄膜的热稳定性。Zr或Cr... （共11页）