硅、铬掺杂对TiAlN基涂层微观结构及摩擦学性能的影响

摘要： 分别以Ti_(0.5)Al_(0.5)、Ti_(0.5)Al_(0.4)Cr_(0.1)、Ti_(0.5)Al_(0.4)Si_(0.1)为靶材，采用电弧离子镀技术制备了TiAlN涂层、Ti Al Si N涂层和Ti Al Cr N涂层，研究了硅、铬掺杂（二者掺杂量近似相同）对Ti Al N基涂层微观结构、力学性能以及摩擦学性能的影响。结果表明：Ti Al N涂层、Ti Al ... （共7页）