电子超纯水制备过程典型痕量有机污染物去除机理

摘要： 基于某12寸半导体超纯水中试线，对超纯水系统各处理单元总有机碳（TOC）去除过程及有机组分分子质量分布情况进行了跟踪检测，探究了有机碳紫外降解（TOC-UV）装置照射强度、水力停留时间和有机物分子键能对水中典型痕量有机污染物去除效果的影响。结果表明：两级反渗透（RO）系统可去除98.5%的TOC，一级RO产水中含有97.3%分子质量低于350 u的中性小分子物质；在一定范围内提... （共5页）