阵列式铌酸锂电光调制器偏置点控制技术研究（特邀）

摘要： 受材料自身特性的影响，电光调制器的偏置工作点会随环境改变发生漂移，从而影响调制器的调制效果。针对铌酸锂马赫-曾德尔电光调制器偏置点漂移的问题，研究适用于四阵列平行式电光调制器偏置点控制技术，提出了一种结合光功率和扰动信号幅值检测的控制方法，采用时分复用、增益幅值可调、双模式识别等方法有效减少了硬件冗余，实现了对偏置工作点的精确控制。 （共8页）