单晶SiC磁流变弹性抛光垫的磁控抛光性能研究

摘要： 将智能可控材料磁流变弹性体(MRE)作为化学机械抛光中的抛光垫，研究不同磁控参数(颗粒类型、颗粒质量分数、颗粒粒径、固化磁场强度)的MRE抛光垫对单晶SiC的磁控抛光效果，并分析MRE抛光垫的磁控材料去除机制。结果表明：相比四氧化三铁磁性颗粒，羰基铁粉(CIP)磁性颗粒制备的MRE抛光垫，在抛光SiC时材料去除率(MRR)提高了52.2%;CIP质量分数越大，抛光的MRR越大，... （共9页）