粉末冶金技术在溅射靶材制备中的研究现状

摘要： 磁控溅射靶材由于沉积速率快、镀膜均匀等优点，已成为各类薄膜材料的首选制备方法。同时薄膜材料的广泛应用使得靶材的需求量逐年增多。近年来，粉末冶金技术在溅射靶材制备中得到了广泛应用。本文对靶材制备中使用的粉末冶金技术进行总结和工艺分析，并阐述热压烧结、热等静压烧结、放电等离子烧结的研究现状，最后探讨靶材制备研究中存在的技术问题和发展趋势。 （共5页）