采用新颖自对准法制备高精度硅衍射微透镜阵列及其与红外焦平面阵列集成（英文）

摘要： 硅衍射微透镜阵列通常被用来与红外焦平面集成，从而提高器件性能。在常规套刻法用于制备硅衍射微透镜阵列时，光刻误差是很难避免的，这对器件性能及后续应用产生严重的影响。针对此问题，本文提出一种高精度硅衍射微透镜阵列制备的新颖自对准方法。该方法中硅衍射微透镜阵列的制备精度只由第一次掩膜光刻的精度决定。在后续的刻蚀中，采用掩膜层和牺牲层或保护层将已刻蚀区域进行保护，对未保护区域进行刻蚀，... （共6页）