化学机械抛光(CMP);抛光垫;表面特性;材质特性;修整...[继续阅读]
微纳电子技术2024-04-11
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化学机械抛光(CMP);抛光垫;表面特性;材质特性;修整...[继续阅读]
投影微立体光刻(PμSL)技术;微流控技术;高精度打印;多材料打印;器官芯片...[继续阅读]
等效模型;电路低温光致振荡现象;产生机制;抑制方法...[继续阅读]
压电半导体;功能梯度;拉-弯梁;屈曲;临界载荷...[继续阅读]
石英;光刻胶修正;反应离子刻蚀;倾斜侧壁...[继续阅读]
线性APD;有源电阻反馈跨导放大器;飞行时间测距;TDC...[继续阅读]
图像传感器;高速列级模数转换器;斜坡发生器;逐次逼近算法;定步长搜索算法...[继续阅读]
单晶金刚石;动态摩擦抛光;粗糙度;质量损耗;夹持方式...[继续阅读]
压电陶瓷作动器;迟滞非线性;Hammerstein动态迟滞模型;MPI模型;滑模跟踪控制...[继续阅读]
响应重构;非高斯噪声;卡尔曼滤波(KF)...[继续阅读]