
 1.化学气相沉积(CVD)化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)是利用空间气相反应在基材表面上沉积固态薄膜的工艺技术。化学气相沉积可根据气相反应的激发方式不同分为:热化学气相沉积(TCVD)、放电激发气相沉积(如等离子体PACVD)、辐射 (共 3174 字) [阅读本文] >>
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