参考文献

    [1]　M.J.Bowden,S.R.Turner,Eds.,ElectronicandPhotonicApplicationsofPolymers,ACSAdvancesinChemistrySeries,Vol.218,AmericanChemicalSociety,Washington,DC,1988.[2]　J.H.McCoy,W.Lee,G.L.Varnell,SolidStateTechnol.,32(3),87(1989).[3]　L.F.Thompson,C.G.Willson,M.J.B......查看详细>>

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5.1 引言

    本章的目的是介绍化学气相沉积的基本方面和技术意义。这一章并不是为了提供本领域全面的综述而是着重于内在的原理。这将为读者提供材料化学气相沉积(CVD)方面关键性问题的正确评价,如这个领域是如何发展到现在的状况的、......查看详细>>

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5.3 气相沉积方法(与CVD相关和无关的工艺)综述

    本节的目的是为不同的气相沉积方法提供一个视角,其中包括这些方法的局限性、相对优点和缺点。大多数薄膜沉积方法可以分为两类:化学气相沉积和物理气相沉积。除了前面各节所提到的化学气相沉积外,目前还有很多与CVD相关的......查看详细>>

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5.4 研究实例

    在这一节,我们讨论化学气相沉积(和物理气相沉积)作为一种沉积方法在微电子工业中的选择性应用,该沉积方法可以沉积纯金属、半导体、绝缘体和元素混合物。读者可以参考以下关于应用金属CVD在集成电路的金属化工艺中进行薄膜......查看详细>>

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5.5 总结、结论和将来的方向

    在这一章里我们讨论了薄膜CVD的不同方面,对化学气相沉积工艺的关键特征和分子前驱体的化学和物理要求作了详细说明。化学气相沉积按顺序被分成多步来进行描述,为了在工艺开发方面取得重要进步,必须控制和理解其中每一步。......查看详细>>

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参考文献

    [1]　T.T.Kodas,M.J.Hampden-Smith,TheChemistryofMetalCVD,VCH,Weinheim,Germany,1994.[2]　D.G.Whitten,T.Kajiyama,T.Kunitake,OrganicThinFilms:AnOverview,MRSBulletinMaterialsResearchSociety,Vol.XX,1995.[3]　R.West,SolidStateChemistryandItsApplications,Wiley,NewYo......查看详细>>

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6.1 引言

    自从激光问世以后,光在传输、存储和处理信息方面的用途愈加广泛。由于高性能非线性光学材料的光学特性对于外部电场或者激光自身的电场具有高度敏感性,所以当前全面开发光子技术的趋势催生了对于该种材料的需求。非线性光......查看详细>>

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6.2 基本概念

    6.2.1　极化的微观描述[11]为什么一个分子(或者一种物质)在某种电场,比如光波的振荡电场中,会产生极化现象?为了了解这个过程,我们需要想像当电场(E)和系统的电荷分布相互作用时,在分子水平上到底发生了什么。这种相互作用产生......查看详细>>

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6.3 量子化学描述

    在这一部分,我们简单地、定性地讨论了用量子方程设计非线性光学分子的方法,解释了实验结果。这种理论方法描述了几何和电子结构的、微观极化和超强极化的演变信息。本文中已经数次回顾了这种在电场中使用的方法[8,23-25]。需......查看详细>>

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6.4 分子结构与NLO性质的关系

    我们利用NLO性质的技术是建立在对化学结构和分子非线性性质的关系的理解程度之上。这是因为有机材料的性质实质上是组成材料分子的性质。初期具有共轭π电子的有机化合物被认为是具有潜在非线性性质的结构。π电子云很容易......查看详细>>

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